2025 Japonya Taşlama Teknolojisi Fuarı
Öğütme Teknolojisi Japonya 2025
Henan Boreas Yeni Malzeme Co., Ltd.
OÖğütme Teknolojisi Japonya (GTJ) 2025, şuradan itibaren düzenlendi5-7 Mart 2025,Makuhari Messe Uluslararası Kongre KompleksiChiba Eyaletinde düzenlenen fuar, Asya'nın en önemli taşlama ve parlatma teknolojileri etkinliği olarak ününü pekiştirdi. Yüksek hassasiyetli işleme, otomasyon ve en son yeniliklere odaklanan fuar, 100'den fazla katılımcıyı kendine çekti.300 katılımcıVe15.000 profesyonel ziyaretçiyarı iletken, otomotiv ve ileri malzeme endüstrilerinden
Etkinlik, önemli gelişmelerin altını çizdi.SiC (silisyum karbür)VeGaN (galyum nitrür)Yarı iletken üretiminde Japonya'nın liderliğine paralel olarak, gofret işleme alanında faaliyet gösteriyordu. Başlıca ürün kategorileri arasında taşlama makineleri, aşındırıcılar, elmas aletler, parlatma sıvıları ve hassas ölçüm sistemleri yer alıyordu; özellikle ultra pürüzsüz yüzey işlemleri ve proses verimliliğine yönelik çözümlere büyük önem veriliyordu.
Boreas'ın Katılımı: G108 numaralı stant
Gelişmiş aşındırıcı çözümler alanında küresel bir yenilikçi olan Boreas, amiral gemisi ürünlerini sergiledi—elmas mikro tozlarıVeyüksek performanslı elmas bulamaçları—deStand G108Bu çözümler, SiC ve GaN alt tabaka işleme süreçlerinin zorlu gereksinimlerini karşılamak üzere tasarlanmıştır ve güç elektroniği ve optoelektronik alanlarındaki kritik uygulamalar için eşsiz hassasiyet ve tutarlılık sunmaktadır.
Ürün Özellikleri ve Piyasa Etkisi
- Elmas Mikro Tozları:
Boreas'ın ultra homojen elmas mikro tozları, şu amaçlar için özel olarak tasarlanmıştır:CMP (kimyasal mekanik düzleştirme)Veultra hassas taşlamaSiC levhalarının mikron altı parçacık dağılımı, minimum yüzey kusuru ve daha yüksek verim oranları sağlar; bu da yeni nesil elektrikli araç (EV) ve 5G yarı iletken pazarlarını hedefleyen üreticiler için kritik bir avantajdır.- Özel Elmas Bulamaçları:
Şirketin çevre dostu, yüksek yağlama özelliğine sahip sıvıları, GaN parlatma işlemlerinde ısı dağılımında ve takım ömründe önemli iyileştirmeler göstermiştir. Bu yenilik, sürdürülebilir, yüksek verimli üretim hatlarına yönelik endüstri trendleriyle uyumludur.Geleceğe Bakış
Boreas'ın GTJ 2025'teki başarısı, yarı iletken üretim teknolojilerini geliştirme konusundaki kararlılığının altını çiziyor. Sektörün daha geniş çapta SiC ve GaN kullanımına doğru kaymasıyla birlikte şirket, Ar-Ge yatırımlarını genişletmeyi ve yeni nesil taşlama çözümlerini geliştirmek için küresel liderlerle iş birliği yapmayı planlıyor.Hassasiyet Devrimine Katılın
Boreas'ın elmas mikro tozları ve elmas bulamaçları hakkında daha fazla bilgi edinmek ve yeniliklerimizin üretim süreçlerinizi nasıl geliştirebileceğini keşfetmek için ekibimizle iletişime geçin.
- Özel Elmas Bulamaçları:
Anahtar KelimelerTaşlama Teknolojisi Japonya 2025, Boreas, elmas mikro tozu, elmas bulamacı, SiC gofret parlatma, GaN alt tabaka taşlama, CMP, yarı iletken üretimi, GTJ 2025